光刻技术（photolithography）是一种图形复印技术，是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
光刻能力：利用电子束光刻、步进式光刻、接触式紫外光刻，多种技术相结合图形最小线宽可达8nm。可制作大于8nm线宽的任何复杂图形。