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光刻加工
光刻加工
光刻技术(photolithography)是一种图形复印技术,是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
光刻能力:利用电子束光刻、步进式光刻、接触式紫外光刻,多种技术相结合图形最小线宽可达8nm。可制作大于8nm线宽的任何复杂图形。
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